台积电2nm工艺计划2025年投产

驱动我国2022年6月20日消息

据外媒引述，在按计划绕过3nm元件生产工艺下半年试作的MOS，也在合作开发更是先进的2nm元件生产工艺，他们的这一元件生产工艺，是计划在2025年试作。

根据MOS在北美地区技术专题上交代，他们的2nm元件生产工艺将基于全新的碳纳米管片二极体体系结构，与5nm生产工艺所有别于的鳞式表征集成电路（FinFET）完全有所不同，但会造成了更是强的性能和更是优的能效，但所并不需要的投资也但会极大。

此外，外媒引述还称，在上次下半年所举行的Galaxy封装经销专题上，Galaxy封装经销其业务的负责人就表示，他们在按计划绕过2nm元件生产工艺在2025年下半年试作。

在此之前，目前还不清楚MOS的2nm元件生产工艺，是计划在2025年第二季度还是下半年试作，但可以注定的是，在芯片经销领域同MOS挑战的Galaxy电子，在2nm生产工艺层面但会同他们揭开更是激烈的挑战。